台北，2026年2月25日－EV Group (EVG)為領先業界的創新製程解決方案供應商，致力於為先進半導體設計和晶片整合方案提供專業技術，今日隆重推出新世代EVG®120全自動光阻塗佈系統──這是該公司領先業界的塗佈／顯影平台之一的重大更新。全新EVG120採用嶄新且精巧的系統架構，整合突破性功能，同時承襲成熟EVG®150系統並進行性能優化，相較於前一代產品，顯著提升產能、更大的靈活性和改進的製程控制。所有這些都以更小的使用面積實現，針對產品種類繁多且光阻製程要求極致靈活性的客戶進行優化。
EV Group技術總監Dr. Thomas Glinsner表示：「新世代EVG120平台利用EV Group在光阻和微影製程領域數十年的經驗，以支援我們客戶從研發到量產階段快速多樣化的需求。憑藉內建量測和晶圓邊緣曝光等新功能，以及從我們的EVG150平台繼承而來的功能，EVG120在精巧、量產就緒的平台上，提供無與倫比的塗佈和顯影效能、產能、靈活性和總持有成本的結合。」
EV Group (EVG)為領先業界的創新製程解決方案供應商，致力於為先進及未來的半導體設計和晶片整合方案提供專業技術。EVG的願景是率先探索新技術，並支援微奈米製造技術的下一代應用，使客戶能夠成功地將新產品概念商業化。EVG的產品已可投入量產，包括晶圓鍵合、微影、薄晶圓處理和量測設備，可推動半導體先端微縮、3D整合和先進封裝，以及其他電子和光子應用的發展。有關EVG的更多資訊，請瀏覽www.EVGroup.com。
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